Influence of the growth parameters on TiO2 thin films deposited using the MOCVD method

Abstract

In this work we report the synthesis of TiO2 thin films by the Organometallic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) method. The influence of deposition parameters used during the growth in the obtained structural characteristics was studied. Different temperatures of the organometallic bath, deposition time, temperature and type of the substrate were combined. Using Scanning Electron Microscopy associated to Electron Dispersive X-Ray Spectroscopy, Atomic Force Microscopy and X-ray Diffraction, the strong influence of these parameters in the thin films final microstructure was verified.A síntese de filmes finos de TiO2 por meio do método MOCVD é descrita. Foi estudada a influência de parâmetros de deposição usados durante o crescimento nas características estruturais obtidas. Foram combinados diferentes temperaturas do banho organometálico, tempo de deposição, temperatura e tipo do substrato. A forte influência destes parâmetros na microestrutura final dos filmes foi estudada por meio de diferentes técnicas: microscopia eletrônica de varredura associada com espectroscopia eletrônica de dispersão de raios X, microscopia de força atômica e difração de raios X.