Radikal bebas adalah suatu senyawa yang memicu proses penuaan dini. Dilakukan pengembangan sediaan krim ekstrak tanaman Gonda (Sphenoclea zeylanica Gaertn) yang mengandung zat aktif antioksidan yang mampu melawan radikal bebas. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui senyawa fitokimia ekstrak etanol 96% tanaman Gonda (Sphenoclea zeylanica Gaertn), melihat sifat fisika kimia krim ekstrak tanaman Gonda (Sphenoclea zeylanica Gaertn), serta potensinya sebagai antioksidan melalui uji antiradikal dengan metode DPPH. Penelitian ini merupakan penelitian eksperimental dengan empat formula sediaan krim dan variasi konsentrasi ekstrak yang terdiri dari 0% (F0), 5% (F1), 10% (F2), 15% (F3). Evaluasi sifat fisika kimia yang dilakukan adalah uji organoleptis, uji homogenitas, uji daya sebar, uji viskositas, uji daya lekat, dan uji pH, serta aktivitas antiradikal yang diuji dengan menggunakan metode DPPH. Hasil penelitian menunjukkan ekstrak etanol 96% tanaman Gonda (Sphenoclea zeylanica Gaertn) positif mengandung flavonoid, saponin, tanin, steroid, dan alkaloid. Krim ekstrak tanaman Gonda (Sphenoclea zeylanica Gaertn) memiliki sifat fisika kimia yang baik berdasarkan uji evaluasi krim serta menunjukkan aktivitas antiradikal rata-rata F0 yaitu 596,08 dengan kategori sangat lemah, F1 (5%) yaitu 95,32 dengan kategori kuat, F2 (10%) yaitu 64,58 dengan kategori kuat, F3 (15%) yaitu 40,96 dengan kategori sangat kuat, dan rata-rata kontrol positif yaitu 22,74 dengan kategori sangat kuat. Ekstrak etanol 96% tanaman gonda sebagai bahan aktif dalam sediaan krim berpotensi dikembangkan menjadi antioksidan topikal dan perlu diteliti lebih lanjut aktivitas antioksidannya secara in vitro maupun in vivo.
CITATION STYLE
Lionita, N. K. V., Wintariani, N. P., & Apsari, D. P. (2023). Aktivitas Antiradikal Krim Ekstrak Tanaman Gonda (Sphenoclea zeylanica Gaertn) dengan Metode DPPH (1,1-diphenyl-2-picrylhydrazyl). Jurnal Ilmiah Medicamento, 9(1), 52–60. https://doi.org/10.36733/medicamento.v9i1.4575
Mendeley helps you to discover research relevant for your work.