A Relação Entre a Formação Docente e o Tecnostress

  • Pereira F
  • Santos da Silva L
  • Novello T
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Abstract

Estudos evidenciam que um percentual significativo da população sofre de estresse laboral, e um dos motivos é a adaptação ao uso das tecnologias digitais. Embora as tecnologias, estejam potencializando inúmeras transformações na forma de viver em sociedade, elas podem produzir problemas físicos e sociais na saúde dos professores. Tal situação pode levá-los a sofrer de mal-estar causado pelo uso das tecnologias digitais, denominado tecnostress. Este artigo tem como objetivo compreender a relação entre a formação docente e o tecnostress no que se refere a  utilização de tecnologias digitais em escolas públicas. Para tanto, desenvolveu-se uma pesquisa quantitativa/qualitativa através de um questionário composto por sete questões fechadas e uma aberta, realizada com 49 professores de matemática da região sul do Rio Grande do Sul. Priorizamos para este artigo a questão aberta que foi analisada pelo viés qualitativo, e utilizou-se para tal a Análise Textual Discursiva (ATD). Emergiram três categorias: Interesse dos Alunos e Potencialidades das Tecnologias da Informação e Comunicação - TIC; Formação docente; e Infraestrutura. Neste estudo será analisada a categoria Formação do Professor, considerando-se o crescente acesso a tecnologias digitais, a demanda social presente nos espaços escolares e a importância da formação inicial e continuada que atendam à realidade. Observou-se que as tecnologias são importantes potencializadoras nos processos educacionais, porém a falta formação que aborde o uso das tecnologias de forma pedagógica, causa sentimentos de mal-estar nos docentes - o tecnostress. Para minimizar esses efeitos é necessário investir em formações condizentes com a realidade tecnológica vivida pelos alunos.

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Pereira, F. D., Santos da Silva, L. M., & Novello, T. P. (2018). A Relação Entre a Formação Docente e o Tecnostress. RELACult - Revista Latino-Americana de Estudos Em Cultura e Sociedade, 4. https://doi.org/10.23899/relacult.v4i0.721

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