Ionenplattieren

Abstract

Nach herkömmlicher Einteilung gehört das Ionenplattieren mit dem Aufdampfen und der Katodenzerstäubung in die Gruppe der physikalischen Verfahren zur Vakuumbeschichtung, deren Kennzeichen der Materialtransport von der Quelle zum Substrat über die Gasphase ist. Wesentlich für das Ionenplattieren ist der Umstand, daßdas Substrat vor der Beschichtung und die sich bildende Schicht während des Aufwachsens einem ständigen Beschußvon geladenen und ungeladenen Teilchen ausgesetzt sind.