Absorption of Infrared Radiation by D 2 O and HDO Mixed with Montmorillonite

Abstract

The frequency, v , for O-D stretching in D 2 O films between the superimposed layers of different micas and montmorillonites was measured at several film thicknesses and temperatures of 2° and 25°C by infrared spectroscopy. The molar absorptivity, ε, for O-D stretching in HDO films between the montmorillonite layers was also measured at different film thicknesses and 25°C. It was found that v is related to m w /m m , the mass ratio of D 2 O to mica or montmorillonite, by the equation v = v 0 exp β /(m w m m where v 0 is the O-D stretching frequency in pure D 2 O and ß is a constant. Since m w /m m is proportional to a , the area under the absorption peak, m w /m m can be replaced by a in this equation. It was also found that ε decreased dramatically as the thickness of the water film between the montmorillonite layers decreased. These results were interpreted to mean that the structure of the interlayer water is perturbed by the interlayer cations and/or silicate surfaces. Инфракрасной спектроскопией замерялась частота v для растягивания О-D в пленках D 2 O между прилегающими слоями разных слюд и монтмориллонитов при нескольких толщинах пленки и температурах 2° и 25°С. Также замерялась молярная поглощаемость, ε, для растягивания О-Б в пленках НDO между слоями монтмориллонита при разных толщинах пленки и 25°С. Было найдено, что связь vc m w /m m отношением массы D 2 O к слюде или монтмориллониту, описывается уравнением v = v 0 ехр β /( m w /m m ) где v 0 = частота растягивания О-D в чистом D 2 O, а β = постоянная. Поскольку m w /m m пропорционально а , площади под пиком поглощения, вместо m w /m m в этом уравнении можно подставить а. Также было найдено, что ε резко понизилась, когда уменьшилась толщина пленки между слоями монтмориллонита. Эти результаты показывают, что структура межслойной воды искажается межслойными катионами и/или силикатными поверхностями. [N. R.] Die Frequenz, v , für die O-D-Streckung in D 2 O-Filmen zwischen den Schichten unterschiedlicher Glimmer und Montmorillonite wurde bei verschiedenen Filmdicken und bei Temperaturen von 2° und 25°C mittels Infrarot-Spektroskopie gemessen. Die molare Absorptivität, e, für die O-D-Streckung in HDO-Filmen zwischen den Montmorillonitschichten wurde ebenfalls bei unterschiedlichen Filmdicken, bei 25°C gemessen. Es zeigte sich, daß v mit m w /m m , dem Massenverhältnis von D 2 O zu Glimmer oder Montmorillonit, durch die Gleichung v = v ° exp ß /(m/m m ) zusammenhängt, wobei v 0 die O-D-Streck-ungsfrequenz in reinem D 2 O und ß eine Konstante ist. Da m w /m m proportional zu a ist, der Fläche unter dem Absorptionspeak, kann m w /m m in dieser Gleichung durch a ersetzt werden. Weiters zeigte sich, daß e sehr stark zurückgeht, wenn die Dicke des Wasserfilms zwischen den Montmorillonitschichten abnimmt. Diese Ergebnisse wurden dahingehend interpretiert, daß die Struktur des Zwischenschichtwassers durch die Zwischenschichtkationen und/oder durch die Silikatoberflächen gestört wird. [U.W.] La fréquence, v , de retirement de films D 2 O entre les couches superposées de différents micas et de montmorillonites a été mesurée à plusieurs épaisseurs de films et à des températures de 2° et 25°C par spectroscopic infrarouge. L'absorptivité molaire, e, pour retirement 0-D dans les films HDO entre les couches de montmorillonite a aussi été mesurée à des épaisseurs de film différentes et à 25°C. On a trouvé que v est apparenté à m w /m m la proportion de masse de D 2 O au mica ou à la montmorillonite, par l’équation v = v° exp ß/ (m w /m m ) où v est la fréquence de retirement O-D dans D 2 O pur et où ß est une constante. Puisque m w /m m est proportionnel à a , la région sous le sommet d'adsorption, m w /m m peut être remplacé par a dans cette équation. On a aussi trouvé que ε a décru dramatiquement à mesure que l’épaisseur du film d'eau entre les couches de montmorillonite décroissait. On a interprété ces résultats comme signifiant que la structure de l'eau interfolaire est perturbée parles cations interfolaires et/ou par les surfaces silicées. [D.J.]