DEPOSIÇÃO DE FILMES DE TiN POR GAIOLA CATÓDICA EM ATMOSFERA DE PLASMA DE Ar-N2-H2

Abstract

A gaiola catódica é uma técnica de nitretação/deposição desenvolvida no Labplasma (Laboratorório de Processamento de Materiais por Plama) na UFRN (Universidade Federal do Rio Grande do Norte) com intuito de reduzir os problemas indesejáveis da técnica convencional, principalmente a obtenção de um filme homogêneo. Conhecendo a aplicabilidade de filmes de TiN em janelas solares, o objetivo desse trabalho é obter um filme de TiN sobre um substrato de vidro utilizando a técnica de deposição por plasma através da gaiola catódica e estudar a influência das espécies ativas no plasma na deposição desse filme. Para tal, foi confeccionada uma gaiola catódica de titânio e utilizou-se uma atmosfera de Ar, N2 e H2 nas seguintes fluxos em sccm: 4-3-0; 4-3-0,1 e 4-3-0,2; respectivamente, e o processo de deposição foi monitorado por Espectroscopia de Emissão Óptica (Optical Emission Spectroscopy – OES). Através das análises de difração de raios X, transmitância e microscopia óptica observou-se a formação de um filme de TiN em todas as condições, sendo que o filme foi mais espesso e homogêneo com aumento do fluxo de H2. Logo, uma pequena variação no fluxo de H2 modifica a quantidade das espécies ativas no plasma e consequentemente as características do filme depositado.