Elektrodeposisi Lapisan TiO2 Untuk Aplikasi Lapisan Self Cleaning

Abstract

Lapisan TiO2 telah disintesis pada substrat besi yang terlapisi Nikel dan Kromium menggunakan prekursor TiCl3.  Lapisan TiO2 disintesis dengan metode elektrodeposisi pada tegangan 3 V dan 4 V, dengan variasi kosentrasi TiCl3 0,1 hingga 1 M.  Pola XRD menunjukkan bahwa lapisan TiO2 yang terbentuk berfasa anatase.  Hasil SEM menunjukkan bahwa elektrodeposisi dengan TiCl3 0,4 M pada tegangan 3 V menghasilkan morfologi lapisan tipis TiO2 yang lebih merata dibandingkan dengan sampel-sampel yang lainnya.  Hasil pendeposisian lapisan pada tegangan 4 V menghasilkan lapisan yang berwarna hitam.  Dari pengukuran sudut kontak  diketahui bahwa sampel bersifat hidrofobik dengan sudut kontak di atas 90°.  Sampel dengan kosentrasi TiCl3 0,4 M dan tegangan 3 V memiliki lapisan TiO2 yang memiliki sifat self cleaning terbaik dengan sudut kontak rata-rata 104,3°.Kata kunci : Lapisan TiO2, sudut kontak, self cleaning