Pengaruh Doping Strontium pada Lapisan Tipis BaZr0,20Ti0,80O3

Abstract

Intisari Lapisan tipis Barium Zirconium Titanat (BaZr0,20Ti0,80O3/ BZT) didoping strontium (Sr) 1% dan 3% telah berhasil ditumbuhkan di atas substrat Pt/Si. Lapisan tipis dideposisi menggunakan metode Chemical Solution Deposition (CSD) yang disiapkan dengan spin coater dengan kecepatan putar 4000 rpm dan suhu annealingnya 800 • C. Hasil karakterisasi XRD menunjukkan adanya puncak-puncak milik BZT dan terjadi pergeseran puncak setelah didoping Sr. Refinement dengan analisis Rietveld menggunakan program GSAS dilakukan untuk menunjukan doping Sr telah masuk dalam senyawa BZT dan hasil analisisnya menunjukkan parameter kisi semakin besar seiring bertambahnya Sr. Hasil karakterisasi dari SEM menunjukkan permukaan lapisan tipis BSZT telah rata di atas substrat Pt/Si dan seiring penambahan Sr ukuran butirnya semakin kecil. ABSTRACT A thin layer of Barium Zirconium Titanate (BaZr0,20Ti0,80O3) doped strontium (Sr) 1% and 3% have been successfully grown on a substrate Pt/Si. A thin layer deposited using Chemical Solution Deposition (CSD) were prepared by spin coater with a rotational speed of 4000 rpm and a annealing temperature of 800 • C. The XRD characterization results indicate peaks belonging BZT and a shift in the peak after doped Sr. Refinement by the Rietveld analysis using GSAS program shows that Sr atoms were incorporated in BZT and the results of the analysis showed the lattice parameter increase with increasing Sr. The results indicate SEM characterization of thin film surface BSZT has been deposited on the substrate Pt/Si and as the Sr concentration increases, the grain size decreases.