Análisis químico y topográfico de la superficie de implantes dentales

Abstract

El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de tres marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados nueve implantes de titanio de los siguientes sistemas: As Technology, Neodent y Sistema Nacional de Implantes. El material fue dividido en tres grupos de tres implantes cada uno. Para determinar la composición química se utilizó la técnica de Espectroscopia de Fotoelectrones Excitada por rayos-X (XPS), mientras que para caracterizar la topografía superficial se utilizó Microscopia Electrónica de Barrido (MEB). Fueron identificados titanio, carbono, silicio y oxígeno en todas las muestras analizadas. Otros elementos contaminantes identificados fueron aluminio, azufre, plomo, fósforo, calcio, sodio y nitrógeno. Fueron identificadas impurezas en la superficie de todos los implantes analizados. Consideramos necesario realizar otros estudios que relacionen la presencia y concentración de estos elementos con el proceso de oseointegración.